※税込み価格
plus RESTORE プラスリストア UVミルク SPF30 PA++
プラスリストア UVミルク SPF30 PA++
商品概要
プラスリストア UVミルクは、紫外線吸収剤不使用のノンケミカルタイプの日焼け止めです。
石鹸で落とせる処方のため、洗顔時の肌への負担を抑えながら紫外線対策ができます。ミルクタイプでなめらかな使用感があり、乾燥が気になる肌にも使いやすい設計です。
プラスリストア UVミルクは、敏感肌や美容施術後などデリケートな肌状態にも配慮されたサンスクリーンで、メイク下地としても使用できます。
主な特徴
紫外線吸収剤不使用のノンケミカル処方
プラスリストア UVミルクは紫外線吸収剤を使用していないノンケミカルタイプの日焼け止めです。
石鹸で落とせる低負担設計
クレンジング不要で洗顔料や石鹸で落とせるため、肌への負担を抑えたUVケアができます。
敏感肌にも配慮した処方
レーザー治療や光治療後など、肌がデリケートな状態のUVケアにも配慮されています。
抗酸化成分を配合
フラーレンやビタミンC誘導体などの整肌成分を配合し、肌のコンディションを整えるサポートをします。
主な成分と役割
| 成分 | 役割 |
|---|---|
| 酸化チタン | 紫外線散乱剤 |
| 酸化亜鉛 | 紫外線散乱剤 |
| フラーレン | 抗酸化整肌成分 |
| テトラヘキシルデカン酸アスコルビル | ビタミンC誘導体 |
| フェルラ酸 | 抗酸化サポート成分 |
| トコフェロール | ビタミンE |
この商品が向いている人
敏感肌の方
レーザー治療や光治療後のUVケアをしたい方
石鹸で落とせる日焼け止めを探している方
ニキビが気になる肌のUVケアをしたい方
化粧下地として使える日焼け止めを探している方
医師コメント
プラスリストア UVミルクは、紫外線吸収剤を使用していないノンケミカルタイプの日焼け止めです。
美容施術後の肌は紫外線の影響を受けやすいため、低刺激で肌負担の少ないUVケアが重要です。本製品は石鹸で落とせる処方のため、クレンジングによる摩擦を抑えながらUVケアができます。
敏感肌やニキビが気になる肌の方でも取り入れやすい日焼け止めです。
使用方法
スキンケアの最後に使用してください。
適量(パール粒2個分)を手に取り、顔全体にムラなくなじませます。
メイク下地としても使用できます。
汗をかいた後やタオルで拭いた後は、2~3時間おきに塗り直してください。
よくある質問(FAQ)
Q. プラスリストア UVミルクは石鹸で落とせますか?
洗顔料や石鹸で落とせる処方です。
Q. 紫外線吸収剤は使用されていますか?
紫外線吸収剤不使用のノンケミカル処方です。
Q. レーザー治療後にも使用できますか?
医師の指示に従う必要がありますが、施術後のUVケアとして使用されることがあります。
Q. メイク下地として使えますか?
化粧下地としても使用できます。
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注意事項
肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。
使用中または使用後に赤み、かゆみ、刺激などの異常が現れた場合は使用を中止してください。
傷や湿疹など異常のある部位には使用しないでください。
乳幼児の手の届かない場所に保管してください。
全成分
水、ラウリン酸メチルヘプチル、酸化チタン、BG、酸化亜鉛、水酸化Al、ステアリン酸ソルビタン、セバシン酸ジエチルヘキシル、イソステアリン酸、イザヨイバラエキス、ビルベリー葉エキス、フラーレン、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、加水分解コメヌカエキス、ユキノシタエキス、フェルラ酸、ワルテリアインディカ葉エキス、プルーン分解物、ポリクオタニウム-51、ウンシュウミカン果皮エキス、ボタンエキス、クズ根エキス、グリチルリチン酸2K、加水分解水添デンプン、トリエチルヘキサノイン、PPG-4セテス-20、シクロペンタシロキサン、トコフェロール、グレープフルーツ果皮油、グリセリン、デキストリン、マンニトール、PEG-60水添ヒマシ油、PVP、グルコン酸Na、クエン酸、クエン酸Na、シリカ、水添ナタネ油アルコール、ポリヒドロキシステアリン酸、ミリストイルメチル-β-アラニン(フィトステリル/デシルテトラデシル)、カプリル酸グリセリル、(アクリル酸ヒドロキシエチル/アクリロイルジメチルタウリンNa)コポリマー、ホホバエステル、スクワラン、キサンタンガム、ペンテト酸5Na、シクロヘキサシロキサン、グリコシルトレハロース、ラウロイルサルコシンイソプロピル、アスコフィルムノドスムエキス、ミツイシコンブ/ワカメエキス、トゲキリンサイ/ヒヂリメン/ミツイシコンブ/ウスバアオノリ/ワカメエキス、ポリソルベート60、エチルヘキシルグリセリン